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靶材

        目前FPD所用的ITO燒成的靶材應該是單一的三氧化二銦相結構。所采用的工藝基本上是熱等靜壓和熱壓,這是目前國際上生產ITO靶材的主流工藝,韓國目前三星一家,其技術主要來源于日本,產品一部分采用STN,但主要用于TFT液晶生產,但其產品仍有縫隙(空洞)。我們的鉬鈮合金靶材可以避開這個不足。

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